如果你需要購買(mai)磨(mo)粉機(ji)，而(er)且(qie)區(qu)分不(bu)了(le)雷蒙(meng)磨(mo)與球(qiu)磨(mo)機(ji)的(de)區(qu)別(bie)，那么下(xia)面(mian)讓(rang)我來給(gei)你講解一下(xia)： 雷蒙(meng)磨(mo)和球(qiu)磨(mo)機(ji)外形差異較大，雷蒙(meng)磨(mo)高達威(wei)猛，球(qiu)磨(mo)機(ji)敦實個頭也不(bu)小(xiao)，但是二者的(de)工(gong)
隨著社會經濟(ji)的(de)快速發展，礦石磨(mo)粉(fen)的(de)需(xu)(xu)求量越來越大，傳統的(de)磨(mo)粉(fen)機已經不(bu)能滿(man)足生產(chan)(chan)的(de)需(xu)(xu)要，為了(le)滿(man)足生產(chan)(chan)需(xu)(xu)求，黎明重工加緊科研(yan)步(bu)伐，生產(chan)(chan)出了(le)全自動智能化環保節能立式磨(mo)粉(fen)
網頁2022年(nian)1月(yue)1日??四氯化(hua)硅的主要(yao)用(yong)途和作用(yong) 四氯化(hua)硅可(ke)(ke)用(yong)于(yu)制造高分(fen)散性(xing)(xing)(xing)(xing)硅膠，這是一種超微細的無水二氧化(hua)硅，具(ju)有增粘性(xing)(xing)(xing)(xing)、觸變(bian)性(xing)(xing)(xing)(xing)、流動性(xing)(xing)(xing)(xing)、增強性(xing)(xing)(xing)(xing)等(deng)優點，可(ke)(ke)用(yong)于(yu)涂料、印刷油墨(mo)、漆、合成樹脂(zhi)、橡膠、醫藥、潤(run)滑脂(zhi)、蠟(la)及飼料等(deng)方(fang)面；也用(yong)作軍事用(yong)煙霧毒氣(qi)；也是
網頁2013年4月5日??高(gao)純四(si)氯化硅為無(wu)色(se)透明(ming)液體，純度(du)稍低的呈現微黃或者淡(dan)黃色(se)，有窒息性(xing)氣(qi)味。常(chang)溫常(chang)壓(ya)下密度(du)148，熔點70℃，沸點576 ℃，沸點隨(sui)著壓(ya)力增(zeng)高(gao)而增(zeng)高(gao)。在潮
網頁??????? Baidu四(si)氯(lv)化(hua)硅(gui)： （式 14） 圖 1 氯(lv)硅(gui)烷的(de)(de)蒸汽壓(ya)(ya)與溫(wen)度的(de)(de)關(guan)系 P = 00003t 3 + 00112t 2 + 01593t + 74207 說明(ming)：其中壓(ya)(ya)強單(dan)位為 kPa，溫(wen)度單(dan)位為℃。 3、氯(lv)硅(gui)烷的(de)(de)
網(wang)頁(ye)2012年1月11日??四(si)氯化硅 硅烷與(yu)三氯氫硅的物性數據doc 【中文(wen)名稱(cheng)(cheng)】四(si)氯化硅；氯化硅【英文(wen)名稱(cheng)(cheng)】silicontetrachloride【工業縮寫】STC【結構(gou)或分子式】【分子結構(gou)】Si原
網頁2020年(nian)2月(yue)17日??中國粉體(ti)網訊(xun) 多晶硅(gui)是(shi)高(gao)純度硅(gui)，也是(shi)重要的(de)光伏和半導體(ti)材料。制造多晶硅(gui)會產生四氯化硅(gui)和氫氣。四氯化硅(gui)是(shi)具有強烈窒(zhi)息性氣味(wei)的(de)揮發性液體(ti)，可(ke)作為氣相
網頁2017年9月12日(ri)??冷氫化(hua)工藝(yi)中四氯化(hua)硅汽(qi)化(hua)方式的比(bi)較pdf,第(di)40卷 第(di) 12期 化(hua) 學 工 程 Vo1．40 No．12 2012年 l2月 CHEMICALENGINEERING 由安(an)托(tuo)因方程可以看出飽和(he)
網頁(ye)2014年3月6日(ri)??在四氯化硅的(de)煙霧中含(han)有其(qi)水解(jie)產物鹽酸。所以四氯化硅的(de)毒(du)作用(yong)主(zhu)要表現在其(qi)強烈(lie)的(de)刺激性(xing)和腐(fu)蝕(shi)性(xing)。它會刺激并腐(fu)蝕(shi)皮膚、眼睛及呼吸道粘膜(mo)，可引(yin)起(qi)流淚、
網頁2023年1月6日??ChemicalBook 為(wei)您提供四氯化硅(gui)(1)的(de)化學(xue)性質，熔點(dian)，沸點(dian)，密度，分(fen)子(zi)式，分(fen)子(zi)量，物理性質，毒性，結構式，海關編碼(ma)等(deng)信息(xi)，同時(shi)您還(huan)可(ke)以瀏覽(lan)四氯化硅(gui)(1)產品的(de)價格，供應(ying)商，貿易(yi)商，生產企業(ye)和生產廠家，最后(hou)四氯化硅(gui)
網頁2013年4月(yue)5日??高(gao)純四氯化(hua)硅(gui)為無色透明液體，純度稍低的(de)呈現微黃(huang)或者淡黃(huang)色，有窒息(xi)性氣(qi)味。常(chang)溫常(chang)壓(ya)(ya)下(xia)密(mi)度148，熔(rong)點70℃，沸點576 ℃，沸點隨(sui)著壓(ya)(ya)力增高(gao)而增高(gao)。在潮濕空氣(qi)中水(shui)解(jie)而成硅(gui)酸(suan)和氯化(hua)氫(qing)。遇水(shui)時水(shui)解(jie)作(zuo)用(yong)很激烈(lie)，也能和醇類起激烈(lie)反(fan)應。溶
網頁2015年(nian)5月11日??MSDS 四氯(lv)化(hua)硅 4/5 分(fen)解溫(wen)度：－ 比重(zhong) ：未知 氣體密(mi) 度： 0124 lb/ft3 (210C, 1atm) 蒸汽壓: (211℃)： 389 psia(26KPa) 水中溶解度：劇烈(lie)反應(ying) 化(hua)學穩定性： 穩定 危(wei)害分(fen)解物：水解產生氯(lv)化(hua)氫。 需避免的情況：鋼(gang)瓶不可曝露(lu)超過40
網頁(ye)2019年11月8日??由于有h2的(de)通入，壓力27～3mpag的(de)四氯(lv)化硅(gui)在165～170℃汽化，氣相四氯(lv)化硅(gui)進入一(yi)級電(dian)加熱器(7)進行加熱，第一(yi)次(ci)加熱后氣相四氯(lv)化硅(gui)(8)溫度升(sheng)(sheng)至(zhi)270℃，送至(zhi)反(fan)應(ying)進料(liao)加熱器(9)殼(ke)程，第二次(ci)加熱后氣相四氯(lv)化硅(gui)(10)溫度升(sheng)(sheng)至(zhi)420～430℃，然后送至(zhi)二
網頁2014年3月6日??在四氯化硅(gui)的煙(yan)霧中含有其水解產物鹽酸。所(suo)以四氯化硅(gui)的毒作用主要表現在其強烈的刺激性和腐蝕性。它會刺激并腐蝕皮膚、眼睛及呼吸道(dao)粘膜，可引(yin)起流淚(lei)、咳嗽、結膜炎、上呼吸道(dao)炎癥，氣管、支氣管及肺的炎癥。
網頁2009年11月(yue)30日??四(si)氯(lv)(lv)化硅(gui)氫(qing)化工藝研究(jiu)與(yu)探討(tao) f洛陽中硅(gui)高科技有限公(gong)司研發的(de)固定床反(fan)應(ying)器，克服了硅(gui)粉(fen)對(dui)反(fan)應(ying)爐的(de)磨損和催化 劑的(de)流失等問題，在反(fan)應(ying)壓力為 13～15MPa、氫(qing)氣與(yu)四(si)氯(lv)(lv)化硅(gui)摩爾比為（2～ 5）:1、反(fan)應(ying)溫度(du) 450～500 ℃、硅(gui)粉(fen)層厚度(du) 05～10m 條件下，系統運行穩定
網頁2022年2月21日(ri)??將四(si)氯化(hua)(hua)硅(gui)原(yuan)料送至(zhi)精餾塔精餾后，在(zai)蒸發器(qi)中加(jia)熱蒸發，并以干(gan)燥、過濾后的空氣為載(zai)體，送至(zhi)合成水解爐。四(si)氯化(hua)(hua)硅(gui)在(zai)高溫下氣化(hua)(hua)(火(huo)焰溫度1000~1800℃)后，與一定量的氫(qing)和氧(或空氣) 在(zai)1800℃左右的高溫下進(jin)行氣相水解;此時生成的氣相二氧化(hua)(hua)硅(gui)
網頁(ye)2023年(nian)1月29日??將(jiang)(jiang)銻粉(為四氯(lv)(lv)化硅(gui)重(zhong)量的(de)005%)加入粗四氯(lv)(lv)化硅(gui)中(zhong)進(jin)行精餾，經回(hui)流30 min然后取56～59℃的(de)餾分，制(zhi)得工(gong)業級(ji)(ji)四氯(lv)(lv)化硅(gui)成品(pin)。其 Si+2C12→SiCl4 將(jiang)(jiang)工(gong)業級(ji)(ji)四氯(lv)(lv)化硅(gui)進(jin)一步精餾并長(chang)時間回(hui)流，可制(zhi)得高純四氯(lv)(lv)化硅(gui)。類(lei)別 腐蝕物品(pin) 毒性分級(ji)(ji) 中(zhong)毒 急性毒性
網頁2023年1月1日??四氯化硅(gui)用(yong)途 【用(yong)途一】 用(yong)于合(he)成(cheng)有(you)(you)(you)機(ji)硅(gui)化合(he)物(wu)、無機(ji)硅(gui)化合(he)物(wu)及制取純硅(gui)等 用(yong)于制備有(you)(you)(you)機(ji)硅(gui)化合(he)物(wu)及戰爭用(yong)煙幕 【用(yong)途二(er)】 用(yong)于制造(zao)有(you)(you)(you)機(ji)硅(gui)化合(he)物(wu)，如硅(gui)酸酯、有(you)(you)(you)機(ji)硅(gui)油、高溫(wen)絕(jue)緣(yuan)漆、有(you)(you)(you)機(ji)硅(gui)樹脂、
網頁(ye)2015年5月(yue)11日??MSDS 四氯(lv)化(hua)(hua)硅(gui) 4/5 分解(jie)(jie)溫度(du)：－ 比重 ：未知 氣體密 度(du)： 0124 lb/ft3 (210C, 1atm) 蒸汽壓(ya): (211℃)： 389 psia(26KPa) 水中溶解(jie)(jie)度(du)：劇烈反應 化(hua)(hua)學穩(wen)定性： 穩(wen)定 危害(hai)分解(jie)(jie)物：水解(jie)(jie)產生氯(lv)化(hua)(hua)氫。 需避(bi)免的情(qing)況：鋼瓶不可(ke)曝露(lu)超過40
網頁四(si)氯(lv)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)(gui)氫化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)為(wei)三氯(lv)氫硅(gui)(gui)返回系統循環利用的工藝技(ji)術主要高溫氫化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)（直接(jie)氫化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)）、低溫氫化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)（添(tian)加硅(gui)(gui)粉(fen)(fen)氫化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)）、氯(lv)氫化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)（添(tian)加氯(lv)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)氫和(he)硅(gui)(gui)粉(fen)(fen)）、高壓等離(li)子體還原和(he)催(cui)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)氫化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)等五種技(ji)術。 高溫氫化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(熱氫化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)) 四(si)氯(lv)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)(gui)的高溫氫化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)是目前處理多(duo)晶硅(gui)(gui)副(fu)產物四(si)氯(lv)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)(gui)的
網頁2021年8月31日??在(zai)一定(ding)溫度下的高純硅(gui)芯上用(yong)高純氫(qing)(qing)還原高純三氯(lv)(lv)(lv)氫(qing)(qing)硅(gui)，在(zai)硅(gui)芯上沉(chen)積生(sheng)長多晶硅(gui)；同時具備回收(shou)、利用(yong)生(sheng)產(chan)過程中伴隨(sui)產(chan)生(sheng)的氫(qing)(qing)氣、氯(lv)(lv)(lv)化氫(qing)(qing)、四(si)氯(lv)(lv)(lv)化硅(gui)等副產(chan)物以(yi)及副產(chan)熱能，最大(da)限度地(di)實現“物料內部循環、能量綜合利用(yong)”的多晶硅(gui)生(sheng)產(chan)工(gong)藝(yi)。
網頁2018年10月3日??冷氫化(hua)(hua)工藝(yi)(yi)中(zhong)四(si)氯(lv)化(hua)(hua)硅汽(qi)(qi)化(hua)(hua)斱(zhuo)式(shi)(shi)的比較姚(yao)又省，劉繼三，隴維(wei)平華陸(lu)工程科(ke)技有陘責仸公司(si)，陜西西安摘(zhai)要(yao):對(dui)多晶硅生產中(zhong)的冷氫化(hua)(hua)工藝(yi)(yi)做了簡單介(jie)紹(shao)，重點介(jie)紹(shao)了冷氫化(hua)(hua)工藝(yi)(yi)中(zhong)四(si)氯(lv)化(hua)(hua)硅的4種(zhong)汽(qi)(qi)化(hua)(hua)斱(zhuo)式(shi)(shi)，包括電加(jia)熱汽(qi)(qi)化(hua)(hua)、導熱油汽(qi)(qi)化(hua)(hua)、直接混(hun)合汽(qi)(qi)化(hua)(hua)和強制混(hun)合汽(qi)(qi)化(hua)(hua)，幵對(dui)返4種(zhong)汽(qi)(qi)化(hua)(hua)斱(zhuo)式(shi)(shi)的優缺點
網頁(ye)臨界(jie)溫(wen)度 偏心因(yin)子 偶極矩 生成(cheng)(cheng)焓 J/mol 燃燒熱 J/mol 混(hun)合(he)物組成(cheng)(cheng) 四氯化硅(gui)的基本(ben)物性描(miao)述(shu) 四氯化硅(gui) 的基本(ben)物性描(miao)述(shu) 無(wu)色或淡黃色發煙液體，有刺(ci)激性氣味，易(yi)潮(chao)解。 點值查詢
網頁(ye)氣(qi)相色(se)譜(pu)法(fa)(fa)(fa)測(ce)定(ding)四氯化硅(gui)的純度 方志(zhi)青(qing)1,張明時2,林(lin)野2,秦樊鑫2 【摘要】摘要:提(ti)出了氣(qi)相色(se)譜(pu)法(fa)(fa)(fa)測(ce)定(ding)四氯化硅(gui)的純度。 采用LDSE54 (053 mm×30 m,12μm)石英毛細管色(se)譜(pu)柱分離(li),熱導(dao)檢測(ce)器檢測(ce),面積歸一化法(fa)(fa)(fa)定(ding)量(liang)。 方法(fa)(fa)(fa)用于(yu)分析四氯化硅(gui)標(biao)準樣品,測(ce)定(ding)值與(yu)標(biao)準值
網(wang)頁2022年8月(yue)21日??至于300度下硅(gui)(gui)晶粒(li)為什么能與氯化氫(qing)反應，我的(de)理解是硅(gui)(gui)在一(yi)定溫(wen)度下總會個(ge)(ge)別幾(ji)個(ge)(ge)調皮搗蛋的(de)硅(gui)(gui)原(yuan)子(zi)(zi)斷(duan)開了硅(gui)(gui)硅(gui)(gui)鍵(jian)成為了裸露(lu)的(de)硅(gui)(gui)原(yuan)子(zi)(zi)。硅(gui)(gui)原(yuan)子(zi)(zi)只有(you)4個(ge)(ge)電子(zi)(zi)，其(qi)中兩個(ge)(ge)還(huan)是未成對(dui)的(de)，還(huan)有(you)一(yi)個(ge)(ge)空3p軌道。氯化氫(qing)中氯原(yuan)子(zi)(zi)電負性(xing)大，看(kan)到硅(gui)(gui)這么慷(kang)慨，有(you)這么
網頁提供四(si)氯(lv)化(hua)硅(gui)飽(bao)和蒸(zheng)汽壓(ya)圖文(wen)檔免費下(xia)載(zai)，摘要: 文(wen)檔下(xia)載(zai) 億萬文(wen)檔 免費下(xia)載(zai) 外語考試 資(zi)格考試 IT計算機 高等教(jiao)育 教(jiao)學研究 能源/化(hua)工(gong)工(gong)程(cheng)科技專業資(zi)料。氯(lv)硅(gui)烷 二(er)氯(lv)二(er)氫(qing)硅(gui) 三(san)氯(lv)氫(qing)硅(gui) 四(si)氯(lv)化(hua)硅(gui) 飽(bao)和蒸(zheng)汽壓(ya) 壓(ya)力 溫度 關系 計算公(gong)式供參(can)考t
網(wang)頁(ye)四氯化(hua)(hua)(hua)(hua)硅氫(qing)(qing)化(hua)(hua)(hua)(hua)為三(san)氯氫(qing)(qing)硅返回(hui)系統循(xun)環(huan)利用的工藝技術(shu)主要(yao)高溫(wen)氫(qing)(qing)化(hua)(hua)(hua)(hua)（直(zhi)接氫(qing)(qing)化(hua)(hua)(hua)(hua)）、低溫(wen)氫(qing)(qing)化(hua)(hua)(hua)(hua)（添(tian)加硅粉(fen)氫(qing)(qing)化(hua)(hua)(hua)(hua)）、氯氫(qing)(qing)化(hua)(hua)(hua)(hua)（添(tian)加氯化(hua)(hua)(hua)(hua)氫(qing)(qing)和(he)(he)硅粉(fen)）、高壓(ya)等離(li)子體還原(yuan)和(he)(he)催化(hua)(hua)(hua)(hua)氫(qing)(qing)化(hua)(hua)(hua)(hua)等五種技術(shu)。 高溫(wen)氫(qing)(qing)化(hua)(hua)(hua)(hua)(熱(re)氫(qing)(qing)化(hua)(hua)(hua)(hua)) 四氯化(hua)(hua)(hua)(hua)硅的高溫(wen)氫(qing)(qing)化(hua)(hua)(hua)(hua)是(shi)目前處理多晶硅副產物四氯化(hua)(hua)(hua)(hua)硅的
網頁2021年5月5日??SiCl4是(shi)(shi)分(fen)子(zi)晶體。常(chang)溫(wen)下是(shi)(shi)氣態。氯(lv)化(hua)(hua)硅，是(shi)(shi)一種(zhong)無(wu)(wu)機物(wu)，化(hua)(hua)學式為SiCl4，高純四氯(lv)化(hua)(hua)硅為無(wu)(wu)色(se)透明液體，純度稍低的呈現微黃(huang)或者(zhe)淡(dan)黃(huang)色(se)，有窒息性氣味。常(chang)溫(wen)常(chang)壓下密度148，熔點70℃，沸(fei)點576℃，沸(fei)點隨著壓力增(zeng)高而增(zeng)高。四氯(lv)化(hua)(hua)硅一般指(zhi)氯(lv)化(hua)(hua)硅物(wu)理性質外觀與性狀：無(wu)(wu)色(se)或淡(dan)黃(huang)色(se)發煙液體，有
網頁四(si)(si)氯化(hua)硅(gui)(gui)(gui)（SiCl4） 學式(shi) SiCl4 中文名稱 四(si)(si)氯化(hua)硅(gui)(gui)(gui) 英文名稱 SiliconTetrachloride CASNo 1 分子量 16989 充裝系數 119kg/L 應(ying)用 用于制硅(gui)(gui)(gui)酸酯(zhi)類、有機硅(gui)(gui)(gui)單體(ti)、有機硅(gui)(gui)(gui)油、高溫絕緣材料、硅(gui)(gui)(gui)樹脂、硅(gui)(gui)(gui)橡膠等，也
網頁2017年5月8日(ri)??四氯化硅產(chan)品采用干燥(zao)清潔的專用槽車灌裝(zhuang)或根據用戶要用量需(xu)要按照(zhao)GB 12463 要求包裝(zhuang)。 63 運(yun)輸 運(yun)輸應(ying)遵(zun)守GB 12463 ——柱溫(wen)(wen)(wen)：初始(shi)溫(wen)(wen)(wen)度50 ℃,保(bao)持5 min ，升(sheng)溫(wen)(wen)(wen)速率20 ℃/min ，終溫(wen)(wen)(wen)160 ℃，保(bao)持2 min； ——汽化溫(wen)(wen)(wen)度: 180 ℃；
網頁(ye)2018年(nian)10月3日??冷(leng)氫化(hua)(hua)工藝(yi)中(zhong)(zhong)四氯(lv)化(hua)(hua)硅汽(qi)(qi)化(hua)(hua)斱(zhuo)式的(de)比較姚又省，劉繼三，隴維平華(hua)陸工程(cheng)科(ke)技有(you)陘責仸公司，陜西(xi)西(xi)安摘要:對多晶硅生(sheng)產中(zhong)(zhong)的(de)冷(leng)氫化(hua)(hua)工藝(yi)做了(le)簡單(dan)介紹，重點(dian)介紹了(le)冷(leng)氫化(hua)(hua)工藝(yi)中(zhong)(zhong)四氯(lv)化(hua)(hua)硅的(de)4種(zhong)汽(qi)(qi)化(hua)(hua)斱(zhuo)式，包(bao)括(kuo)電加熱(re)汽(qi)(qi)化(hua)(hua)、導熱(re)油汽(qi)(qi)化(hua)(hua)、直接混(hun)合(he)汽(qi)(qi)化(hua)(hua)和強制混(hun)合(he)汽(qi)(qi)化(hua)(hua)，幵對返(fan)4種(zhong)汽(qi)(qi)化(hua)(hua)斱(zhuo)式的(de)優缺(que)點(dian)
網頁摘要 以三氯(lv)氫硅(gui)和多(duo)晶(jing)硅(gui)生產中精餾(liu)塔(ta)底排出的(de)(de)重組分副產物(wu)(wu)四氯(lv)化硅(gui)和高聚氯(lv)硅(gui)烷(wan)的(de)(de)混合(he)物(wu)(wu)為原料(liao),采用氣相水(shui)解法制備白炭黑新(xin)工藝考察了氣化溫(wen)(wen)度、水(shui)蒸氣和氯(lv)硅(gui)烷(wan)混合(he)物(wu)(wu)的(de)(de)流量(liang)、流量(liang)比等因(yin)素對(dui)產物(wu)(wu)理化性能的(de)(de)影響結果表明,較優工藝條件為氣化溫(wen)(wen)度155℃,氯(lv)硅(gui)烷(wan)混合(he)物(wu)(wu)通氣流量(liang)120 mL/min,水(shui)
網頁會員中心(xin) VIP福利社(she) VIP免(mian)費專(zhuan)區 VIP專(zhuan)屬(shu)特權
網頁單晶硅(gui)(gui)(gui)(gui)(gui)是(shi)信息產業中(zhong)重要的(de)(de)基礎材料通常用(yong)碳在高溫下(xia)還(huan)原(yuan)二氧化(hua)(hua)硅(gui)(gui)(gui)(gui)(gui)制得粗(cu)硅(gui)(gui)(gui)(gui)(gui)（含鐵、鋁、硫、磷等雜(za)質)，粗(cu)硅(gui)(gui)(gui)(gui)(gui)與氯氣反應生(sheng)成四(si)氯化(hua)(hua)硅(gui)(gui)(gui)(gui)(gui)（反應溫度450500°)，四(si)氯化(hua)(hua)硅(gui)(gui)(gui)(gui)(gui)經提純后用(yong)氫氣還(huan)原(yuan)可得高純硅(gui)(gui)(gui)(gui)(gui)以下(xia)是(shi)實驗室制備四(si)氯化(hua)(hua)硅(gui)(gui)(gui)(gui)(gui)的(de)(de)裝置(zhi)示意(yi)圖
網頁2022年11月23日??郭(guo)瑞(rui)華等(deng)利(li)用高溫(wen)(wen)電阻爐加熱轉爐渣(zha)(zha)，待(dai)溫(wen)(wen)度達到預定值(zhi)后，通過(guo)(guo)向渣(zha)(zha)中加入(ru)焦炭并(bing)進(jin)行攪拌以促進(jin)氣化(hua)脫(tuo)磷反應(ying)進(jin)行。 試驗結果表明，當溫(wen)(wen)度達到1 500 ℃時氣化(hua)脫(tuo)磷率(lv)最(zui)大達到686%。 王書桓等(deng)采用正交試驗，通過(guo)(guo)向渣(zha)(zha)中加入(ru)硅質還原劑(ji)進(jin)行氣化(hua)脫(tuo)磷
網(wang)頁2022年(nian)11月17日??;3夾套水(shui)泵的位(wei)(wei)號是 ;4去離子水(shui)泵的位(wei)(wei)號為(wei) ;5若1氫(qing)化爐需停送電時,填寫的位(wei)(wei)號為(wei) ;6四(si)氯化硅 的分子 冰豆網(wang) 收藏 下載資源 加入VIP,免費下載 氫(qing)化車間工藝運(yun)行(xing)技(ji)術崗(gang)工程師崗(gang)位(wei)(wei)題庫還原氫(qing)化工藝工程師docx 上傳人：b****4 文(wen)檔編號：
